服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
05
2025-08
星期 二
-
无锡立式炉氧化扩散炉 赛瑞达智能电子装备供应
半导体传感器制造过程中，敏感材料的性能对传感器的精度与可靠性起着决定性作用，而立式炉可通过特定的热处理，激发敏感材料的特性并稳定其性能。针对不同类型的敏感材料，如用于气体传感器的金属氧化物材料、用于压力传感器的压电材料等，立式炉能
-
05
2025-08
星期 二
-
无锡赛瑞达管式炉掺杂POLY工艺 赛瑞达智能电子装备供应
在半导体晶圆制造环节，管式炉的应用对提升晶圆质量与一致性意义重大。例如，在对8英寸及以下晶圆进行处理时，一些管式炉采用立式批处理设计，配合优化的气流均匀性设计与全自动压力补偿，从源头减少膜层剥落、晶格损伤等问题，提高了成品率。同时
-
05
2025-08
星期 二
-
无锡制造管式炉低压化学气相沉积系统 赛瑞达智能电子装备供应
晶圆预处理是管式炉工艺成功的基础，包括清洗、干燥和表面活化。清洗步骤采用SC1（NH₄OH:H₂O₂:H₂O=1:1:5）去除颗粒（>0.1μm），SC2（HCl:H₂O₂:H₂O=1:1:6）去除金属离子（浓度<1p
-
05
2025-08
星期 二
-
无锡制造管式炉BCL3扩散炉 赛瑞达智能电子装备供应
随着半导体技术不断向高集成度、高性能方向发展，对半导体材料的质量和性能要求愈发严苛，管式炉的技术也在持续创新升级。一方面，加热系统的优化使管式炉的加热速度更快且温度均匀性更好，能够在更短时间内将炉内温度升至工艺所需的高温，同时保证
-
05
2025-08
星期 二
-
无锡制造管式炉真空退火炉 赛瑞达智能电子装备供应
退火工艺在半导体制造流程里，主要用于消除硅片在前期加工过程中产生的内部应力，使晶体结构重新恢复完整性，同时还能促进掺杂原子在晶格中的均匀分布，优化半导体材料的电学性能。管式炉凭借自身出色的性能，为退火工艺提供了稳定可靠的环境。在惰
推荐资讯